Pat
J-GLOBAL ID:200903029020125792

生検後キャビティ処理移植片および方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 鷲頭 光宏 ,  緒方 和文
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2006535512
Publication number (International publication number):2007508109
Application date: Sep. 24, 2004
Publication date: Apr. 05, 2007
Summary:
生検後キャビティ移植片は、放射線不透過性要素と、コア部分と、シェル部分と、を含む。コア部分は、放射線不透過性要素に連結され、第1の制御された孔アーキテクチャを画成する第1の多孔性マトリクスを含む。シェル部分は、コア部分に連結され、第1の制御された孔アーキテクチャとは異なる第2の制御された孔アーキテクチャを画成する第2の多孔性マトリクスを含む。【選択図】 図30
Claim (excerpt):
生検後キャビティ処理移植片であって、 放射線不透過性要素と、 前記放射線不透過性要素に連結されたコア部分であって、第1の制御された孔アーキテクチャを画成する第1の多孔性マトリクスを含むコア部分と、 前記コア部分に連結されたシェル部分であって、前記第1の制御された孔アーキテクチャとは異なる第2の制御された孔アーキテクチャを画成する第2の多孔性マトリクスを含むシェル部分と、 を具備する生検後キャビティ処理移植片。
IPC (2):
A61F 2/12 ,  A61B 19/00
FI (2):
A61F2/12 ,  A61B19/00 501
F-Term (15):
4C097AA19 ,  4C097BB01 ,  4C097CC01 ,  4C097CC02 ,  4C097DD02 ,  4C097DD05 ,  4C097DD15 ,  4C097EE01 ,  4C097EE08 ,  4C097EE16 ,  4C097EE19 ,  4C097EE20 ,  4C097FF09 ,  4C097MM05 ,  4C097MM09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
Show all

Return to Previous Page