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J-GLOBAL ID:200903029028220050

吸熱反応のためのセラミック膜

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999242989
Publication number (International publication number):2000109302
Application date: Aug. 30, 1999
Publication date: Apr. 18, 2000
Summary:
【要約】【課題】 高いH2/COモル比の合成ガスの生成を生成するための方法及び反応器を提供すること。【解決手段】 合成ガス(水素と一酸化炭素の混合物)のH2/CO比を約3に維持する。このモル比はCH4+H2O→3H2+COの化学方程式に従って行われるスチーム改質反応によって得られる。この吸熱スチーム改質反応に必要とされる熱を得るために反応器内で低級燃料を燃焼させ、その燃焼熱を吸熱スチーム改質反応へ伝達する。この燃焼に必要とされる酸素を移送するために酸素選択性イオン移送膜素子を用いることによって望ましくないNOxの発生を最少限にする。
Claim (excerpt):
反応通路内で行われる吸熱反応に熱を供給するための方法であって、前記吸熱反応を窒素不透過バリヤーによって燃焼場から分離する工程と、酸素含有ガスを空気通路内に通し、該ガス中の酸素を酸素選択性イオン移送膜素子のカソード側から該膜素子を透過してアノード側へ移送された篩下画分と該酸素選択性イオン移送膜素子のカソード側に保持されたままの篩上画分とに分離するのに有効な温度及び酸素分圧で該酸素含有ガスを該空気通路内で酸素選択性イオン移送膜素子のカソード側に沿って流動させる工程と、前記燃焼場において燃料を前記篩下画分と篩上画分の少くとも一方と共に燃焼させて燃焼熱を創出する工程と、前記燃焼熱を前記吸熱反応へ伝達する工程と、から成る方法。
IPC (4):
C01B 3/38 ,  B01J 19/00 301 ,  C10K 3/00 ,  F02M 27/02
FI (4):
C01B 3/38 ,  B01J 19/00 301 A ,  C10K 3/00 ,  F02M 27/02 F

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