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J-GLOBAL ID：200903029048297971

複合材の清浄化方法及びセルフクリ-ニング性複合材機構

Inventor： 槻田 祐二 ,  鳩野 広典 ,  平河 智博 ,  森原 かおり
Applicant, Patent owner： 東陶機器株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998280059
Publication number (International publication number)：1999300303
Application date： Oct. 01, 1998
Publication date： Nov. 02, 1999
Summary：

【要約】【課題】励起光照度が低い場合でも光触媒被覆した複合材表面を清浄な状態に維持する方法の提供。【解決手段】光触媒被覆した基材を準備する工程と、前記光触媒を光励起することにより基材表面を親水性にする工程と、前記層表面を洗浄する軟水を準備する工程と、軟水で基材表面を洗浄する工程を含む。

Claim (excerpt)：

複合材表面を清浄化する方法であって、光触媒粒子を含有する層が形成された複合材を準備する工程と、前記光触媒を光励起することにより前記層表面を親水性にする工程と、前記層表面を洗浄する軟水を準備する工程と、前記層表面を軟水で洗浄する工程からなる基材の清浄化方法。

IPC (10)：

B08B 7/00 ,  A47K 3/00 ,  A47K 4/00 ,  A47K 5/00 ,  A47K 10/00 ,  A47K 11/00 ,  A47K 13/00 ,  B01J 35/02 ,  C08L 83/06 ,  C09K 3/18 104

FI (10)：

B08B 7/00 ,  A47K 3/00 Z ,  A47K 4/00 ,  A47K 5/00 ,  A47K 10/00 ,  A47K 11/00 ,  A47K 13/00 ,  B01J 35/02 J ,  C08L 83/06 ,  C09K 3/18 104