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J-GLOBAL ID:200903029097511610
生成物製造装置ならびにそれを用いた微粒子の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005339880
Publication number (International publication number):2006188666
Application date: Nov. 25, 2005
Publication date: Jul. 20, 2006
Summary:
【課題】本発明は、均質な生成物を効率よく容易に作製することのできる生成物製造装置を提供することを目的とするものである。また、均質な微粒子、特にナノメートルサイズの半導体ナノ粒子を効率よく容易に作製するための製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】流体を流路を経由して、内径が5mm以下の反応路1に流通させ、該反応路1内にて、前記流体から所定の生成物を生成せしめるための生成物製造装置において、前記反応路1にマイクロ波を照射するためのマイクロ波発生器3を具備することを特徴とする生成物製造装置。【選択図】図1
Claim (excerpt):
流体を流路を経由して、反応路に流通させ、該反応路内にて、前記流体から所定の生成物を生成せしめるための生成物製造装置において、前記反応路にマイクロ波を照射するためのマイクロ波発生器を具備することを特徴とする生成物製造装置。
IPC (2):
FI (2):
C09K11/08 A
, B01J19/12 H
F-Term (13):
4G075AA27
, 4G075AA63
, 4G075BA10
, 4G075BD07
, 4G075CA02
, 4G075CA03
, 4G075CA26
, 4G075DA02
, 4G075EB25
, 4G075EB31
, 4G075FB06
, 4H001CA01
, 4H001CA02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
-
半導体超微粒子の製造方法及び製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-154765
Applicant:三菱化学株式会社
-
化合物半導体超微粒子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-357005
Applicant:三菱化学株式会社
-
ナノ粒子製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-028790
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
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