Pat

J-GLOBAL ID：200903029104264682

ポジ型レジスト組成物及びパターニング方法

Inventor： 井上 弘 ,  松川 公洋 ,  玉井 聡行 ,  松浦 幸仁 ,  浜本 哲也 ,  豊田 宏
Applicant, Patent owner： 科学技術振興事業団 ,  井上 弘 ,  松川 公洋 ,  玉井 聡行 ,  松浦 幸仁
Agent (1)： 三枝 英二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000396890
Publication number (International publication number)：2002196494
Application date： Dec. 27, 2000
Publication date： Jul. 12, 2002
Summary：

【要約】【課題】感度、ドライエッチング耐性、耐熱性等に優れており、しかも露光量に応じて加工深さが異なるアナログ的な性質を有するポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターニング方法を提供すること。【解決手段】(A)アルコキシシラン基含有ビニル系共重合体、及び(C)硬化触媒を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物(I)、(A)アルコキシシラン基含有ビニル系共重合体、(B)加水分解性アルコキシシラン又はその低縮合物、及び(C)硬化触媒を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物(II)、並びに、上記(I)又は(II)のポジ型レジスト組成物を用いたパターニング方法。

Claim (excerpt)：

(A)アルコキシシラン基含有ビニル系共重合体、及び(C)硬化触媒を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/039 501 ,  C08F230/08 ,  C08K 3/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 43/04 ,  G03F 7/075 511

FI (6)：

G03F 7/039 501 ,  C08F230/08 ,  C08K 3/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 43/04 ,  G03F 7/075 511

F-Term (62)：

2H025AA01 ,  2H025AA09 ,  2H025AA10 ,  2H025AA14 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB20 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BF02 ,  2H025BF04 ,  2H025BF08 ,  2H025BF14 ,  2H025BF29 ,  2H025BF30 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB34 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  4J002BC071 ,  4J002BC081 ,  4J002BC091 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG071 ,  4J002BG081 ,  4J002BG101 ,  4J002BQ001 ,  4J002DD016 ,  4J002DE056 ,  4J002DF006 ,  4J002DG046 ,  4J002DH026 ,  4J002EB116 ,  4J002EF036 ,  4J002EN026 ,  4J002EN106 ,  4J002EN136 ,  4J002EV236 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J100AB02P ,  4J100AB03P ,  4J100AL03P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL11P ,  4J100AL69P ,  4J100AL71P ,  4J100AM02P ,  4J100AM05P ,  4J100BA77Q ,  4J100BA93P ,  4J100BB18P ,  4J100BC04P ,  4J100BC43P ,  4J100CA04 ,  4J100JA37