Pat
J-GLOBAL ID：200903029106752900
ゲル化過程またはゲル状態の観測方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
亀井 弘勝 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999015959
Publication number (International publication number)：2000214086
Application date： Jan. 25, 1999
Publication date： Aug. 04, 2000
Summary：
【要約】【課題】 非エルゴード性試料のゲル化過程またはゲル状態をリアルタイムで測定することのできる観測方法を提供する。【解決手段】 本発明のゲル化過程またはゲル状態の観測方法は、非エルゴード性試料8に光を照射して得られる散乱光を、レンズ12、CCDカメラ15、受光素子18等の結像手段を通じて、二次元散乱強度データとして検出し、一定の散乱角θにおける二次元散乱強度データを抽出して解析することを特徴とする。
Claim (excerpt)：
非エルゴード性試料に光を照射して得られる散乱光を、結像手段を通して二次元散乱強度データとして検出し、この検出されたデータの中から一定の散乱角における二次元散乱強度データを抽出して解析することを特徴とするゲル化過程またはゲル状態の観測方法。
IPC (2)：
FI (2)：
G01N 21/49 Z
, G01N 21/47 B
2G059AA05
, 2G059BB04
, 2G059DD13
, 2G059EE02
, 2G059FF01
, 2G059JJ20
, 2G059JJ23
, 2G059JJ25
, 2G059KK04
, 2G059MM03
Cited by examiner (5)
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特開平3-235040
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光散乱測定を利用した物質の構造解析装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平6-095219
Applicant：大塚電子株式会社
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特開平3-235040
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Article cited by the Patent：
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