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J-GLOBAL ID：200903029152564230

アッシング後の処理液組成物およびこれを用いた処理方法

Inventor： 田辺 将人 ,  脇屋 和正 ,  小林 政一
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 長谷川 洋子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999148926
Publication number (International publication number)：2000338685
Application date： May. 27, 1999
Publication date： Dec. 08, 2000
Summary：

【要約】【課題】 0.2〜0.3μmあるいはそれ以下の超微細パターン化プロセスにおけるより過酷な条件のドライエッチング、続いてアッシングが施された基板において、金属配線に対する腐食を防止し、かつホトレジスト変質膜、金属デポジション等の残渣物を確実に除去し得るとともに、残渣物除去処理時および水リンス時での腐食を有効に防止し得るアッシング後の処理液組成物およびこれを用いた処理方法を提供する。【解決手段】 フッ化水素酸と金属イオンを含まない塩基との塩、ヒドロキシルアミン、および水を配合させてアッシング後の処理液組成物とする。そして、基板上に設けたホトレジストパターンをマスクとして、該基板にエッチング、アッシング処理をした後、上記処理液組成物を適用して基板を処理する。

Claim (excerpt)：

(a)フッ化水素酸と金属イオンを含まない塩基との塩、(b)ヒドロキシルアミン、および(c)水を配合してなる、アッシング後の処理液組成物。

IPC (3)：

G03F 7/42 ,  G03F 7/32 501 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/42 ,  G03F 7/32 501 ,  H01L 21/30 572 B

F-Term (11)：

2H096AA25 ,  2H096BA10 ,  2H096CA14 ,  2H096EA02 ,  2H096EA30 ,  2H096GA08 ,  2H096HA23 ,  2H096LA09 ,  5F046MA02 ,  5F046MA12 ,  5F046MA17