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J-GLOBAL ID：200903029160429074

フルオロスルホンアミド含有ポリマーを有するネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法

Inventor：
リー、ウェンジー

About リー、ウェンジー

, 
ヴァラナシ、プシュカラ、ラオ

About ヴァラナシ、プシュカラ、ラオ


Applicant, Patent owner：
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

About インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション


Agent (4)： 坂口 博 ,  市位 嘉宏 ,  上野 剛史 ,  太佐 種一
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006520525
Publication number (International publication number)：2007525696
Application date： Jun. 02, 2004
Publication date： Sep. 06, 2007
Summary：
【課題】水性塩基現像液に優れた溶解反応を示すポリマーを含むネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】以下の2つの化学式のうちの1つを有する少なくとも1種のフルオロスルホンアミド・モノマー単位を有するポリマーを含むネガ型レジスト組成物である 【化1】ここで化学式中、Mは、重合可能な骨格部分であり、Zは、-C(O)O-、-C(O)-、-OC(O)-、-O-C(O)-C(O)-O-またはアルキルからなる群から選択される連結部分であり、Pは、0または1であり、R1は、炭素数が1〜20個の直鎖または分岐鎖アルキル基であり、R2は、水素、フッ素、炭素数が1〜6個の直鎖または分岐鎖アルキル基、または一部もしくは全てがフッ素化された炭素数が1〜6個の直鎖または分岐鎖アルキル基であり、nは、1〜6の整数である。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
ポリマーを含むネガ型レジスト組成物であって、ポリマーが以下の2つの化学式
IPC (6)：
G03F 7/033 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/38 ,  C08F 32/04
FI (7)：
G03F7/033 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/38 ,  C08F32/04
F-Term (38)：
2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL09Q ,  4J100AL10Q ,  4J100AM21Q ,  4J100AR11P ,  4J100AR11Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BA59P ,  4J100BA59Q ,  4J100BB18P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC49Q ,  4J100BC54Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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