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J-GLOBAL ID：200903029161449001
プラズマ処理装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大山 浩明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007256561
Publication number (International publication number)：2009088284
Application date： Sep. 28, 2007
Publication date： Apr. 23, 2009
Summary：
【課題】 プラズマ生成室で生成されたプラズマから発生する紫外光とイオンを遮蔽してラジカルのみを処理室に供給し,しかもそのラジカルを効率よく通過させるとともに,コンダクタンスを簡単に調整可能とする。【解決手段】プラズマ生成室104と処理室102との間にこれらを隔てる隔壁部材200を設け,隔壁部材は,その中心部から周縁部に渡って延びる多数の板状のフィン部材220を放射状に配置してなるフィン構造210を有し,各フィン部材は,その上端部が隣りのフィン部材の下端部にオーバーラップするとともに,隣りのフィン部材との隙間を空けて周方向に傾斜した状態で立設した。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
処理ガスをプラズマ励起させて発生したラジカルを用いて被処理基板に対して所定の処理を施すプラズマ処理装置であって,
前記処理ガスを励起させてプラズマを生成するプラズマ生成室と,
前記プラズマ生成室に連設する処理室と,
前記処理室内に配置され,前記被処理基板を載置する載置台と,
前記プラズマ生成室と前記処理室を隔てる隔壁部材と,を備え,
前記隔壁部材は,その中心部から周縁部に渡って延びる多数の板状のフィン部材を放射状に配置してなり,
前記各フィン部材は,その上端部が隣りのフィン部材の下端部にオーバーラップするとともに,隣りのフィン部材との隙間を空けて周方向に傾斜した状態で立設したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (9)：
5F004AA06
, 5F004BA03
, 5F004BB14
, 5F004BB26
, 5F004BB28
, 5F004BD01
, 5F004CA04
, 5F004DA24
, 5F004DB26
