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J-GLOBAL ID：200903029164789806

発光Si超微粒子パターンの形成方法

Inventor： 川田 洋揮 ,  遠藤 喜重 ,  斉藤 昇 ,  岡田 亮二
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992308448
Publication number (International publication number)：1994163984
Application date： Nov. 18, 1992
Publication date： Jun. 10, 1994
Summary：

【要約】【構成】粒径が2〜6ナノメータのSiの超微粒子を、揮発性用液中に混入し、これを刷毛やスプレーで塗布して、絵や文字を描く。溶液を揮発させ、発光するSiの絵や文字を得る。透明の管に、発光Siの超微粒子を混入した導電性溶液を封入する。【効果】大きな物体や、壁面上に、低コストで発光文字や絵を描くことができる。また消費電力も低くでき、消費電力の少ない発光管を得ることができる。

Claim (excerpt)：

発光特性を示すパターンの形成方法において、あらかじめ製作した、発光特性を有するSi超微粒子または多孔質体を揮発性の溶液中に分散させ、部材上に塗布して乾燥させ、前記Si超微粒子または前記多孔質体の層を形成することを特徴とする発光特性を示すパターンの形成方法。

IPC (5)：

H01L 33/00 ,  C09K 11/00 ,  C09K 11/08 ,  C09K 11/59 CPR ,  F21K 2/00