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J-GLOBAL ID：200903029227353531
露光装置及び露光方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
佐藤 正年 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991293920
Publication number (International publication number)：1993109601
Application date： Oct. 15, 1991
Publication date： Apr. 30, 1993
Summary：
【要約】【目的】 微細パターンの光コントラストの像を転写できる露光装置及び露光方法を提供する。【構成】 光源1からの照明光は、楕円鏡2、ミラー3、集光レンズ4、オプチカルインテグレーター5を介して偏光板6に入射する。偏光板6は支持具7により支持され、光軸Axあるいはそれと平行な軸を中心として回転可能になっており、透過光束の偏光方向を任意に設定できる。照明光は偏光板6によって、フォトマスク11のラインアンドスペースパターンの長手方向と平行な方向に振動する直線偏光に変換され、コンデンサーレンズ8,9、ミラー9に導かれてマスク11下面のパターン12を照明する。マスク11からの透過、回折光は投影光学系13によって集光結像され、ウエハ14上にマスクパターン12の像を結ぶ。
Claim (excerpt)：
フォトマスクを照明する照明光学系を有する露光装置において、前記フォトマスクへの照明光束の偏光状態を制御する偏光部材を備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03F 1/08
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 311 L
, H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
Cited by examiner (9)
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