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J-GLOBAL ID:200903029237681626

浸炭処理における浸炭防止方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小倉 正明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998112575
Publication number (International publication number):1999302821
Application date: Apr. 22, 1998
Publication date: Nov. 02, 1999
Summary:
【要約】【課題】被処理成品の浸炭を防止する部分に、密着強度が強く、浸炭処理後にあっては被処理成品の表面から容易に剥離することのできる金属被膜をブラスト加工により形成し、金属被膜により覆われた部分に炭素が拡散することを防止する。【解決手段】被処理成品Wの表面に所望パターンのマスク材12を取り付け、前記被処理成品Wよりも低硬度、低融点の金属粉体15を噴射速度80m/sec 以上又は噴射圧力0.3MPa 以上で噴射し、前記金属粉体15を溶着させてマスキングされていない被処理成品Wの浸炭を防止する部分に、金属被膜14を形成した後、固体浸炭、液体浸炭、ガス浸炭などの既知の浸炭方法により浸炭処理する。被処理成品Wの表面に形成された金属被膜15により、被処理成品表面に炭素が拡散することを防止できる。
Claim (excerpt):
被処理成品の表面の浸炭を防止する部分に、前記被処理成品よりも低硬度、低融点の金属粉体を噴射して前記金属粉体を溶着させて、金属被膜を形成した後、浸炭処理することを特徴とする浸炭防止方法。
IPC (2):
C23C 8/04 ,  C23C 8/22
FI (2):
C23C 8/04 ,  C23C 8/22
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平1-301849

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