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J-GLOBAL ID：200903029240006026
基板処理装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
阪本 善朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996225909
Publication number (International publication number)：1998056051
Application date： Aug. 08, 1996
Publication date： Feb. 24, 1998
Summary：
【要約】【課題】 基板搬送時および基板受け渡し時において、基板にゴミが付着したり、基板温度および/または基板面方向の温度分布が変動することを防止する。【解決手段】 各処理室21〜24には、それぞれ清浄気体を導入するための導入路(不図示)の一端側が連通されており、前記導入路の他端側に接続された清浄気体供給手段から加圧された清浄気体を導入して各処理室の気圧を高くすることができる。ケース1は、スライダ8に支持されたフレーム3を備えたケース搬送機構Tによって各処理室21〜24へ逐次搬送される。また、ケース1には、基板保持機構が収納されているとともに、清浄気体を導入するための導入路(不図示)の一端側が連通されており、前記導入路の他端側に接続された清浄気体供給手段から加圧された清浄気体を導入することにより、ケース内の気圧を高くすることができる。
Claim (excerpt)：
基板に一連の処理を施すための複数の処理室と、前記処理室へ逐次基板を搬送するための基板搬送機構を備えた基板処理装置において、前記基板搬送機構は、前記基板を保持するための基板保持機構が収納されたケースと、前記ケース内へ加圧された清浄気体を導入してその気圧を外部の雰囲気の気圧よりも高くするための清浄気体供給手段を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/68 A
, B65G 49/07 C
