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J-GLOBAL ID:200903029265511124
感光性組成物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 濱田 百合子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003158303
Publication number (International publication number):2004361577
Application date: Jun. 03, 2003
Publication date: Dec. 24, 2004
Summary:
【課題】250nm以下、特にArFエキシマレーザー光(193nm)、F2エキシマレーザー光(157nm)の露光波長においてPEB温度依存性が小さく良好な感光性組成物を提供することにある。【解決手段】(A)カルボキシル基を有する、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び(B)酸分解性のアセタール基及び3級エステル基の少なくとも1種を有する酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有する感光性組成物。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
(A)カルボキシル基を有する、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び(B)酸分解性のアセタール基及び3級エステル基の少なくとも1種を有する酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有する感光性組成物。
IPC (3):
G03F7/039
, G03F7/004
, H01L21/027
FI (3):
G03F7/039 601
, G03F7/004 503A
, H01L21/30 502R
F-Term (16):
2H025AA00
, 2H025AA11
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB17
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025FA17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-346121
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-024011
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-141965
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
電子ベース・リソグラフィのための高感度レジスト組成物
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2004-558994
Applicant:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
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