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J-GLOBAL ID：200903029315687342
Ti-Ni形状記憶合金薄膜の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
山田 明信
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993230368
Publication number (International publication number)：1995090624
Application date： Sep. 16, 1993
Publication date： Apr. 04, 1995
Summary：
【要約】【目的】 金属基体上にTi-Ni合金薄膜を作成し、金属基体からTi-Ni形状記憶合金薄膜の形状記憶特性を損なうことなく薄膜を分離するTi-Ni形状記憶合金薄膜を製造する。【構成】 銅などの金属基体上に成膜されたTi-Ni合金薄膜を、酸性溶液に浸漬し、金属基体を溶解除去した後、熱処理を施す。
Claim (excerpt)：
金属基体上に成膜されたTi-Ni合金薄膜を酸性溶液に浸漬し、前記金属基体を溶解除去した後、熱処理を施すことを特徴とするTi-Ni形状記憶合金薄膜の製造方法。
IPC (4)：
C23F 1/00 103
, C22C 1/00
, C22C 19/03
, C23C 14/58
