スルホニウム塩

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小島隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995186168
Publication number (International publication number)：1997012537
Application date： Jun. 29, 1995
Publication date： Jan. 14, 1997
Summary：

【要約】【目的】微細加工技術に適した高解像度を有し、化学増幅ポジ型レジスト材料の成分として好適な成分を開発する。【構成】下記一般式(1)で示され、分子中のフェニル基の3位に少なくとも1つの酸不安定基を有することを特徴とするスルホニウム塩。【化1】(但し、式中R1は水素原子、アルキル基、アルコキシ基又はジアルキルアミノ基であり、OR2は酸不安定基であり、Yは置換又は非置換のアルキルスルホネート又はアリールスルホネートである。nは0〜2の整数、mは1〜3の整数で、かつnとmの和は3である。)

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示され、分子中のフェニル基の3位に少なくとも1つの酸不安定基を有することを特徴とするスルホニウム塩。【化1】(但し、式中R1は水素原子、アルキル基、アルコキシ基又はジアルキルアミノ基であり、OR2は酸不安定基であり、Yは置換又は非置換のアルキルスルホネート又はアリールスルホネートである。nは0〜2の整数、mは1〜3の整数で、かつnとmの和は3である。)

IPC (3)：

C07C381/12 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (3)：

C07C381/12 , G03F 7/004 503 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

新規スルホニウム塩及び化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-317626 Applicant：信越化学工業株式会社

Return to Previous Page