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J-GLOBAL ID：200903029335920370

オゾン接触反応槽

Inventor： 石田 宏司 ,  鳥山 明夫 ,  南 宏和 ,  上坂 太一
Applicant, Patent owner： 株式会社クボタ
Agent (1)： 森本 義弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993127647
Publication number (International publication number)：1994335690
Application date： May. 31, 1993
Publication date： Dec. 06, 1994
Summary：

【要約】【構成】 オゾン接触反応槽15において、被処理水とオゾン化ガスとを混合し、被処理水中にオゾンを溶解させるオゾン溶解装置16を設ける。オゾン溶解装置16の下流側に、オゾン溶解装置16を通して供給される被処理水を一定方向に流下させ、その溶存オゾンにより被処理水中の被処理物質を酸化処理する反応槽17を設ける。【効果】 被処理水中のオゾン濃度とガス中のオゾン濃度との差が大きい状態で混合されるため、オゾンの溶解速度が大きくなる。反応槽内で完全混合が起こらないので、溶存オゾン濃度が低下しにくい。この結果、被処理物質とオゾンとの反応速度が大きくなる。

Claim (excerpt)：

被処理水とオゾン化ガスとを混合して、被処理水中にオゾンを溶解させるオゾン溶解装置を設け、このオゾン溶解装置の下流側に、オゾン溶解装置を通して供給される被処理水を一定方向に流下させ、その溶存オゾンにより被処理水中の被処理物質を酸化処理する反応槽を設けたことを特徴とするオゾン接触反応槽。

IPC (2)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/50