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J-GLOBAL ID：200903029343210446

描画装置

Inventor： 木山 元 ,  堀野 均 ,  尾崎 文美 ,  安井 弘和
Applicant, Patent owner： 東レエンジニアリング株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000219589
Publication number (International publication number)：2002040669
Application date： Jul. 19, 2000
Publication date： Feb. 06, 2002
Summary：

【要約】【課題】 記録媒体の歪みや変形、あるいは記録媒体の搬送時の位置ずれや傾き等に起因する収率の低下に対処できる描画装置を提供するものである。【解決手段】 記録媒体を載置する固定移動機構と、前記記録媒体に光を照射する光学機構と、記録媒体の描画基準マーク座標を測定する位置測定機構と、前記位置測定機構からのデータを演算し、演算結果に基づいて固定移動機構の制御および光学機構の動作制御を行う制御機構とを備え、記録媒体を移動させて描画基準マークの基準点または基準線の少なくとも一方を設定された描画位置または描画方向の少なくとも一方に合致させると共に描画基準マーク座標を算出し、算出された描画基準マーク座標を基準としてパターンを描画するようにしてある。

Claim (excerpt)：

記録媒体を載置する固定移動機構と、前記記録媒体に光を照射する光学機構と、記録媒体の描画基準マーク座標を測定する位置測定機構と、前記位置測定機構からのデータに基づいて位置制御および前記光学機構の動作制御を行う制御機構とを備え、記録媒体に設けられた描画基準マークの位置を前記位置測定機構により測定し、描画基準マークの基準点または基準線の少なくとも一方を設定された描画位置または描画方向の少なくとも一方に合致させた後に光学機構によりパターンを描画することを特徴とする描画装置。

IPC (3)：

G03F 7/20 501 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/10

FI (3)：

G03F 7/20 501 ,  H05K 3/00 H ,  H05K 3/10 C

F-Term (13)：

2H097AB07 ,  2H097CA17 ,  2H097KA18 ,  2H097KA28 ,  2H097LA09 ,  5E343AA02 ,  5E343AA11 ,  5E343CC62 ,  5E343DD69 ,  5E343DD80 ,  5E343FF05 ,  5E343GG08 ,  5E343GG11