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J-GLOBAL ID：200903029368470469

静電チャックおよびその表面処理方法

Inventor： 佐藤 勝美
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 中島 洋治 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994033653
Publication number (International publication number)：1995245336
Application date： Mar. 03, 1994
Publication date： Sep. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】 静電チャックおよびその表面処理方法に関し,密着性を低下させずにウェハ吸着時のキズを減らすと共にゴミの発生を低減させる。【構成】 半導体ウェハが載置される載置体の内部に電極が設けられ,該電極に直流電圧を印加することにより分極した静電気によって半導体ウェハを載置体に吸着する静電チャックであって,表面にプラズマ照射が施されている。

Claim (excerpt)：

半導体ウェハが載置される載置体の内部に電極が設けられ,該電極に直流電圧を印加することにより分極した静電気によって半導体ウェハを載置体に吸着する静電チャックであって,表面にプラズマ照射が施されていることを特徴とする静電チャック。

IPC (7)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  H01J 37/317 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/3065 ,  H02N 13/00

FI (3)：

H01L 21/265 D ,  H01L 21/302 F ,  H01L 21/302 C