位置合わせ用マーク構造、その製法、リソグラフィマスク

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：大垣孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994050177
Publication number (International publication number)：1995263311
Application date： Mar. 22, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】ウエハとの位置合わせがヘテロダイン法により行なわれる型のX線リソグラフィマスクに設けられる位置合わせ用マーク構造であって、位置合わせ精度が高くマスク自体の製造も簡単な位置合わせ用マーク構造を提供する。【構成】形成したパターンに応じた遮蔽パターン(回路パターン)15を支持する為の支持体17自体を位置合わせマークの形状に応じ加工し形成したマーク部11aと、該支持体17の前記マーク部11aが形成された部分を含む所定領域部分の、前記試料側と対向する面に設けられ、前記遮蔽パターンを構成している材料と同じ材料で構成した遮蔽膜11bとにより位置合わせマーク構造11を構成する。

Claim (excerpt)：

リソグラフィに用いるエネルギー線を遮蔽する材料で構成され形成しようとするパターンに応じた形状を有した遮蔽パターン及び該遮蔽パターンを支持するための支持体を具えるリソグラフィ用マスクとリソグラフィの対象である試料とにそれぞれ形成された位置合わせ用マークに、アライメント光を照射し、各マークに起因して得られる回折光同士を比較することによってこれらマスク及び試料の位置合わせを行なうためのマスク側の位置合わせ用マーク構造であって、前記支持体自体を位置合わせマークの形状に応じ加工し形成したマーク部と、該支持体の前記マーク部が形成された部分を含む所定領域部分の、前記試料側と対向する面に設けられ、前記遮蔽パターンを構成している材料と同じ材料で構成した遮蔽膜とで構成したことを特徴とする位置合わせ用マーク構造。

IPC (5)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (2)：

H01L 21/30 531 M , H01L 21/30 502 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

X線マスクおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-259276 Applicant：松下電器産業株式会社

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