Pat

J-GLOBAL ID：200903029413504612

三次元構造体およびその製造方法

Inventor： 平岡 俊郎 ,  浅川 鋼児 ,  堀田 康之
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999262328
Publication number (International publication number)：2001083347
Application date： Sep. 16, 1999
Publication date： Mar. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】 屈折率が充分に異なる2つの領域を有するフォトニック結晶を提供する。【解決手段】 三次元的に連続な貫通孔を有する多孔質体と、前記多孔質体中に形成され、物質が充填された複数の領域とを具備する三次元構造体である。前記物質が充填された複数の領域は、フォトニック・バンドを形成するように、平均0.1〜2μmの周期で配列された部分を有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

三次元的に連続な貫通孔を有する多孔質体と、前記多孔質体中に形成され、物質が充填された複数の領域とを具備し、前記物質が充填された複数の領域はフォトニック・バンドを形成するように、平均0.1〜2μmの周期で配列された部分を有することを特徴とする三次元構造体。

F-Term (3)：

2H047KB08 ,  2H047QA05 ,  2H047TA00