Pat

J-GLOBAL ID：200903029468862437

X線マスク及びその製造方法

Inventor： 近藤 和昭 ,  杉島 賢次
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 岡本 啓三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992139318
Publication number (International publication number)：1993335216
Application date： May. 29, 1992
Publication date： Dec. 17, 1993
Summary：

【要約】【目的】本発明は、X線マスクに関し、X線吸収体膜をパターニングする際のシフト量を大幅に低減し、パターン精度を良くすることを目的とする。【構成】(002)に面配向したβ-TaのX線吸収体膜6よりなるマスクパターンを含み構成する。

Claim (excerpt)：

(002)に面配向したβ-TaのX線吸収体膜(6)よりなるマスクパターンを有することを特徴とするX線マスク。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 503

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-110821
  
• 特開平3-273610
  
• 特開平3-030414
  
• 特開平4-252014