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J-GLOBAL ID：200903029478220875

無機シリコン材料粉末とケイ素乃至ゲルマニウム系化合物とからなるハイブリッド薄膜、およびその作製方法

Inventor： 西田 亮一 ,  川崎 真一 ,  土岐 元幸 ,  周 徳元 ,  王 祥生
Applicant, Patent owner： 大阪瓦斯株式会社
Agent (1)： 三枝 英二 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994074939
Publication number (International publication number)：1995278814
Application date： Apr. 13, 1994
Publication date： Oct. 24, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】大面積薄膜形成が可能で、歪みなどへの応力耐性が高く、光・電子物性にも優れた新規な材料を提供する。【構成】Siの粉末とポリシランから生成するケイ素系化合物、ポリゲルマンから生成するゲルマニウム系化合物およびシランゲルマンコポリマ-から生成するケイ素ゲルマニウム系化合物の少なくとも1種を含むケイ素乃至ゲルマニウム系化合物とからなるハイブリッド薄膜をアモルファスや結晶のSi粉末とポリシラン、ポリゲルマンおよびシランゲルマンコポリマ-の少なくとも1種との混合液を塗膜し、これを熱処理するか、あるいはまたポリシラン、ポリゲルマンおよびシランゲルマンコポリマ-の少なくとも1種の蒸気の存在下でアモルファスや結晶のSi粉末の少なくとも1種の塗膜を熱処理して作製する。

Claim (excerpt)：

無機シリコン材料粉末とポリシランから生成するケイ素系化合物、ポリゲルマンから生成するゲルマニウム系化合物およびシランゲルマンコポリマ-から生成するケイ素ゲルマニウム系化合物の少なくとも1種を含むケイ素乃至ゲルマニウム系化合物とからなるハイブリッド薄膜。

IPC (2)：

C23C 16/30 ,  C23C 16/42