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J-GLOBAL ID：200903029482232128

塗布装置

Inventor： 鈴木 章弘 ,  柴田 徳夫 ,  高橋 伸輔 ,  都丸 美喜男
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992059421
Publication number (International publication number)：1993220437
Application date： Feb. 13, 1992
Publication date： Aug. 31, 1993
Summary：

【要約】【目的】 支持体の幅方向塗膜厚み変動やムラスジ発生を抑えて、塗布厚みが均一でムラスジ等の故障のない薄層塗布製品を高速で安定して製造する装置。【構成】 支持体移動方向に対して上流側に位置するフロントエッジと、該支持体移動方向に対して下流側に位置しその先端が前記フロントエッジよりも段差をつけて反支持体方向に後退していて先端部が鋭角なバックエッジとを有するエクストルージョン型塗布ヘッドである。前記支持体の塗布面に、あらかじめ塗布された低粘度の液11によって液封された状態で、塗布層を形成する前記塗布ヘッドの先端部のスリット内面4及びフロントエッジ面5およびバックエッジ面6にて該各面の支持体幅方向のろ波中心線うねり(W<U><SB>CA</U></SB>)が0.2 μm以下に構成された塗布装置。

Claim (excerpt)：

支持体移動方向に対して上流側に位置するフロントエッジと、該支持体移動方向に対して下流側に位置しその先端が前記フロントエッジよりも段差をつけて反支持体方向に後退していて先端部が鋭角なバックエッジとを有するエクストルージョン型塗布ヘッドにより、少なくとも一種類以上の塗布液を塗布する塗布装置において、前記支持体の塗布面に、あらかじめ塗布された低粘度の液によって液封された状態で、塗布層を形成する前記塗布ヘッドの先端部のスリット内面及びフロントエッジ面およびバックエッジ面にて該各面の支持体幅方向のろ波中心線うねり(WCA)が0.2 μm以下に構成されたことを特徴とする塗布装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭63-020069
  
• 特開平2-207866
  
• 特開平2-207865