Pat
J-GLOBAL ID：200903029524437108

化粧料

Inventor：
林 弘志

About 林 弘志


Applicant, Patent owner：
株式会社ノエビア

About 株式会社ノエビア


Agent (1)： 竹井 増美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995251835
Publication number (International publication number)：1997067244
Application date： Sep. 04, 1995
Publication date： Mar. 11, 1997
Summary：
【要約】【課題】 塗布時には伸び,すべりが良く、塗布後には優れたさっぱり感を付与し、ぬるつきがなく、皮膚に対する馴染みが良好で、さらにその後に塗布するメイクアップ化粧料の化粧持続性を改善し得る化粧料を得る。【解決手段】 皮膚温付近に曇点を有し、化粧料中では親水性で、皮膚に塗布した後皮膚上で疎水性となる高分子化合物を配合する。かかる高分子化合物としては、N-イソプロピルアクリルアミド,N-イソブチルアクリルアミド,N-ペンチルアクリルアミド,N-シクロヘキシルアクリルアミド,N-ビニルイソプロピルアミド,N-ビニルイソブチルアミド,N-ビニルペンチルアミド,N-ビニルシクロヘキシルアミドより成る群から選ばれた1種又は2種以上のモノマーを重合して得られるホモ重合体又は共重合体、或いは前記モノマーの1種又は2種以上とアクリル系及びビニル系モノマーの1種又は2種以上との共重合体が好ましい。
Claim (excerpt)：
曇点を有する高分子化合物の1種又は2種以上を配合して成る化粧料。
IPC (3)：
A61K 7/48 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/02
FI (3)：
A61K 7/48 ,  A61K 7/00 J ,  A61K 7/02 M
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM