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J-GLOBAL ID：200903029524677206
短パルスレ-ザシステム
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
木村 満 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999103255
Publication number (International publication number)：1999330597
Application date： Apr. 09, 1999
Publication date： Nov. 30, 1999
Summary：
【要約】【課題】 必要十分なエネルギーで短パルスのレーザビームを発生させるレーザシステムを提供する。【解決手段】レーザクリスタルがダイオードレーザにより励起され、少なくとも2つの鏡面を有する共振器により光路が定義される。共振器内の光路は、ポンプ周期の最後に近い短期間を除いて、第1の光学シャッタにより周期的に遮断され、レーザクリスタル内にポンプエネルギーが蓄積される。第1の光学シャッタが開いている間、周期的な所定期間を除いて、第2の光学シャッタが共振器内の光を遮断する。この期間は、光パルスが共振器内を光速で複数回通過し、通過毎に励起されたレーザクリスタルからエネルギーを抽出することで強度を高めるように設定されている。強化された光パルスは、光学解放機構により共振器から解放される。
Claim (excerpt)：
A)レーザクリスタルと、B)前記レーザクリスタルをポンプするように配置された光学ポンプと、C)前記レーザクリスタルを通るビームパスを定義する共振器を定義する少なくとも2つの鏡面と、D)前記ビームパスに配置され、短期間を除いて、前記ビームパスの通過をブロックし、オン期間とオフ期間を定義する第1の光学シャッタと、E)前記共振器内に配置され、周期的な所定期間を除いて前記共振器内の光の通過をブロックする第2の光学シャッタと、F)強化されたパルスを前記共振器から周期的に解放する光学解放機構と、を備えることを特徴とする短パルスレーザシステム。
IPC (2)：
FI (2)：
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