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J-GLOBAL ID：200903029535191224

アセト酢酸誘導体、その製法及び用途

Inventor： 武元 一樹 ,  上谷 保則
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997332814
Publication number (International publication number)：1999158118
Application date： Dec. 03, 1997
Publication date： Jun. 15, 1999
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 樹脂成分と光酸発生剤を含有する化学増幅型レジストに添加した場合に酸増殖作用を示す新規な化合物を提供し、さらにこの化合物を酸増殖剤として用い、特に高い感度を示す化学増幅型レジスト組成物を提供する【解決手段】 下式(I)で示されるアセト酢酸誘導体が提供される。式中、Rは低級アルキルを表し、XはCO又はSO2 を表し、mは1から8の整数を表す。この化合物は、-X-CmF2m+1 に相当する部分が水素である化合物をペルフルオロアルキルスルホニル化剤又はペルフルオロアルキルカルボニル化剤と反応させることにより、製造できる。また、樹脂成分及び光酸発生剤に加えて、式(I)のアセト酢酸誘導体を酸増殖剤として含有するレジスト組成物も提供される。

Claim (excerpt)：

式(I)(式中、Rは低級アルキルを表し、XはCO又はSO2 を表し、そしてmは1〜8の整数を表す)で示されるアセト酢酸誘導体。

IPC (4)：

C07C 69/716 ,  C07C309/65 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601

FI (4)：

C07C 69/716 Z ,  C07C309/65 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601