Pat
J-GLOBAL ID：200903029537296767
走査プローブ・ベースのリソグラフィ位置合わせ
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
岡田 次生
, 伏見 直哉
, 平野 ゆかり
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002575710
Publication number (International publication number)：2005512304
Application date： Mar. 21, 2002
Publication date： Apr. 28, 2005
Summary：
より高精度なリソグラフィ法およびシステムを提供する本明細書に述べられるリソグラフィ・プロセスは、基板上に設けられた位置合わせマークとの走査プローブの相互作用に基づいて、この位置合わせマークに対してパターン型を位置合わせするものである。この方法により、このパターン型は、原子の精度(例えば、約10nm以下)で揃えられることがあり、それにより、ナノメートル・スケールのデバイスを製作することができる。このリソグラフィ法によって形成されるデバイス、および、このような位置合わせを用いるリソグラフィ法を実施するシステムも記述される。
Claim (excerpt)：
基板上に設けられた位置合わせマークとの走査プローブの相互作用に基づいて、該位置合わせマークに対してパターン型を位置合わせするステップを有するリソグラフィ法。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L21/30 502D
, G03F9/00 H
5F046AA28
, 5F046FA20
, 5F046FB20
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (2)
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