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J-GLOBAL ID：200903029582123970

微細沈殿ケイ酸及びその製造法

Inventor： 赤崎 忠行 ,  河野 昭義 ,  中村 修 ,  高菅 和宏
Applicant, Patent owner： 日本シリカ工業株式会社
Agent (1)： 本多 小平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992334661
Publication number (International publication number)：1994183721
Application date： Dec. 15, 1992
Publication date： Jul. 05, 1994
Summary：

【要約】【目的】 透明性に優れた樹脂用充填剤、粘度調整剤、光沢に優れた塗料用充填剤、等として有用な新規な沈殿ケイ酸を提供する。【構成】 BET比表面積100〜600m2 /g、コールターカウンター法により測定した平均二次粒子径が0.1〜1.5μm、1.0μm以下の粒子が50wt%以上であり、8.0μm以上の粒子が存在しない沈殿ケイ酸。

Claim (excerpt)：

BET比表面積100〜600m2 /g、コールターカウンター法により測定した平均二次粒子径が0.1〜1.5μm、1.0μm以下の粒子が50wt%以上を有し、かつ8.0μm以上の粒子が存在しないことを特微とする沈殿ケイ酸。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特公昭62-012171
  
• 特開平3-031344