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J-GLOBAL ID：200903029592688283

リンス方法および装置

Inventor： 佐近 正 ,  宗平修司
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社 ,  ニッテツ電子株式会社
Agent (1)： 本多 小平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992090708
Publication number (International publication number)：1993291222
Application date： Apr. 10, 1992
Publication date： Nov. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】 付着微粒子の残留が少ないリンス方法およびその目的に好適なリンス装置を提供する。【構成】 ?@リンス液中にウエハを浸漬することなしに、ウエハ受台に50Hz以上100kHzの振動を与えて前記ウエハを微小に揺動しながらリンスする。?Aウエハ受台に50Hz以上100kHzの振動を与える振動装置を設ける。

Claim (excerpt)：

ウエハのリンス方法において、リンス液中にウエハを浸漬することなしに、ウエハ受け台に50Hz100kHz以下の振動を与えて前記ウエハを微小に揺動しながら前記ウエハの表面にリンス液を投射することを特徴とするウエハのリンス方法。