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J-GLOBAL ID：200903029594803926
マイクロ波プラズマ装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
河野 登夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991321424
Publication number (International publication number)：1993136091
Application date： Nov. 08, 1991
Publication date： Jun. 01, 1993
Summary：
【要約】【目的】 誘電体被覆線路における定在波の腹,節の位置を変化させてプラズマ密度分布の均一化を図る。【構成】 誘電体被覆線路2を構成する誘電体層2bにおけるマイクロ波伝播方向の終端近傍に誘電体層2bを切断する溝孔2dを設け、該溝孔内に金属板7a部分と誘電体7b部分とを備えた制御板7を、その誘電体7b部分を誘電体層2b端面に対向させる図3(a) に示す位置と、金属板7a部分を誘電体層2b端面に対向させる図3(b) に示す位置とに移動可能に配設する。
Claim (excerpt)：
一部がマイクロ波を透過する耐熱性板で気密に封止された金属製容器と、前記耐熱性板に対向して設置され、一端が導波管を介してマイクロ波発振器に接続され、他端が金属板にて覆われた誘電体層を有するマイクロ波導波路とを備えるマイクロ波プラズマ装置において、前記誘電体層におけるマイクロ波の伝播方向と交叉する向きにこれを分断する溝孔を形成し、該溝孔に、一部に誘電体部分を、また他部に金属板部分を備えた制御板を、その誘電体部分又は金属板部分を前記誘電体層の溝孔に面する端面に対し選択的に対向せしめるべく移動可能に設けたことを特徴とするマイクロ波プラズマ装置。
IPC (2)：
H01L 21/302
, H01L 21/205
