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J-GLOBAL ID：200903029605037996

投影露光装置、露光方法、半導体デバイスの製造方法、および投影光学系の製造方法

Inventor： 森 孝司 ,  高橋 哲男 ,  中村 浩
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997106487
Publication number (International publication number)：1998303097
Application date： Apr. 23, 1997
Publication date： Nov. 13, 1998
Summary：

【要約】【課題】光リソグラフィー工程で用いられる投影光学系を構成する光学素子の表面に付着した水分、有機物質を除去せしめ得る投影露光装置、該装置による露光方法、該露光方法を用いた半導体デバイスの製造方法、さらには投影光学系の製造方法を提供する。【解決手段】所定のパターンを持つ原版に露光用の光を照明光学系よって照明し、その照明された前記原版のパターンを投影光学系を介して感光性基板に投影する投影露光装置において、光洗浄を行うために照明光学系の開口数を変更する手段等を持たせる。また、その光洗浄機能を持つ投影露光装置を用いた露光方法、その露光方法によって半導体デバイスを製造する方法において、光洗浄工程を設けた。さらに、投影光学系の製造方法において、光洗浄工程を設けた。

Claim (excerpt)：

所定のパターンを持つ原版に露光用の光を照明する照明光学系と、該照明光学系により照明された前記原版のパターンを感光性基板に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記投影光学系の透過率、あるいは照明光学系の少なくとも一部と前記投影光学系との透過率に関する計測を行うための計測手段と、前記照明光学系の開口数を変更する変更手段と、前記計測手段からの出力に基づき前記変更手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/20 521

FI (4)：

H01L 21/30 515 D ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 C