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J-GLOBAL ID：200903029611288844

ヒートモード像を形成するための方法及び材料

Inventor： ユイテルオーヴン, エルマン ,  バスティアン, リュク ,  ヴァン アルク, ギー ,  カラン, ポール ,  ミシェリ, ステファン ,  ロシュジェ, ペテル ,  ベルネト, オルス ,  アサンリュク, カラン
Applicant, Patent owner： アグファ-ゲヴェルト ナームロゼ ベンノートチャップ
Agent (1)： 安達 光雄 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1995508958
Publication number (International publication number)：1997504239
Application date： Sep. 06, 1994
Publication date： Apr. 28, 1997
Summary：

【要約】用途によって、UV及び/又は可視スペクトル帯域で低副吸収を有する赤外吸収化合物、還元剤、有機金属塩を含有する記録層を含むサーモグラフ材料を、赤外レーザー放射線によって情報に従って露光することを特徴とするヒートモード像の形成のため使用する材料及び方法にある。

Claim (excerpt)：

支持体、及び一つ以上の層にわたって分布した、(a)還元性有機金属塩、(b)重合体結合剤、(c)還元剤及び(d)赤外吸収化合物を含み、レーザーの放出波長でのその内部吸収率に対する330nm〜430nmでのその平均内部吸収率(本文中で定義した)の比が多くても0.5であり、前記レーザー露光が、赤外放射線の熱への変換によって露光領域での前記有機金属塩の熱還元を誘起させることを含む熱写真材料を赤外レーザー放射線によって情報に従って露光することを特徴とするヒートモード像の形成方法。

IPC (4)：

B41M 5/26 ,  B41M 5/30 ,  C09B 57/00 ,  C09K 3/00 105

FI (4)：

B41M 5/26 S ,  C09B 57/00 V ,  C09K 3/00 105 ,  B41M 5/18 102 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開平2-155788
  
• 特開平2-183248
  
• レーザー走査型熱記録材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-191161   Applicant：ミネソタマイニングアンドマニュファクチャリングカンパニー

Cited by examiner (3)

• 特開平2-155788
  
• 特開平2-183248
  
• レーザー走査型熱記録材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-191161   Applicant：ミネソタマイニングアンドマニュファクチャリングカンパニー