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J-GLOBAL ID：200903029619650682

耐湿性反射防止膜

Inventor： 藤井 秀雄 ,  荒木 清 ,  加藤 元勝
Applicant, Patent owner： 旭光学工業株式会社
Agent (1)： 三浦 邦夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994025430
Publication number (International publication number)：1995234302
Application date： Feb. 23, 1994
Publication date： Sep. 05, 1995
Summary：

【要約】【目的】 高湿度雰囲気に曝されて表面に水滴が生じた後に蒸発して残ったフローマークを簡単に拭き取ることができる反射防止膜を提供すること。【構成】 光学ガラス基板上に形成される複数の層から成る反射防止膜であって、HfO2 又はTa2 O5 から成る高屈折率材料層と、SiO2 から成る低屈折率材料層とを有し、大気側最外層が上記高屈折率材料層であることを特徴とする耐湿性反射防止膜である。

Claim (excerpt)：

光学ガラス基板上に形成される複数の層から成る反射防止膜であって、HfO2 又はTa2 O5 から成る高屈折率材料層と、SiO2 から成る低屈折率材料層とを有し、大気側最外層が上記高屈折率材料層であることを特徴とする耐湿性反射防止膜。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 耐薬反射防止膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-217898   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
• 特開昭58-199301
  
• 特開平3-135502
  

Cited by examiner (3)

• 耐薬反射防止膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-217898   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
• 特開昭58-199301
  
• 特開平3-135502