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J-GLOBAL ID：200903029639653629

局部洗浄装置

Inventor： 安藤 茂 ,  原賀 久人 ,  今坂 卓男 ,  槻田 祐二 ,  西山 修二 ,  竹下 朱美 ,  高松 博
Applicant, Patent owner： 東陶機器株式会社
Agent (1)： 坂口 嘉彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997077757
Publication number (International publication number)：1998263045
Application date： Mar. 28, 1997
Publication date： Oct. 06, 1998
Summary：

【要約】【目的】 排便後の肛門近傍に付着した大腸菌を極めて効果的に除菌できる局部洗浄装置を提供する。【構成】 pH10乃至12の強アルカリ性水を吐出する。

Claim (excerpt)：

pH10乃至12の強アルカリ性水を吐出することを特徴とする局部洗浄装置。

IPC (3)：

A61H 35/00 ,  C02F 1/46 ,  E03D 9/08

FI (3)：

A61H 35/00 Q ,  C02F 1/46 A ,  E03D 9/08 B