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J-GLOBAL ID:200903029667568165

ガラス成形用型およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 後藤 洋介 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993254102
Publication number (International publication number):1995109128
Application date: Oct. 12, 1993
Publication date: Apr. 25, 1995
Summary:
【要約】【目的】 多数回にも及ぶプレス成形によってもガラスの融着が起こらず、所望のガラス成形体を得ること。【構成】 炭化ケイ素焼結体1にCVD法により炭化ケイ素膜2を形成して基盤を得、この炭化ケイ素膜2上にイオンプレーティング法により炭素膜3を形成した後、不活性ガスのイオン注入処理を行うことによって、炭化ケイ素膜2の炭素膜3との界面に非晶質層4を形成する。
Claim (excerpt):
プリフォームをプレス成形することによりガラス成形体を得るために使用されるガラス成形用型に於いて、表面に得ようとする前記ガラス成形体の最終面形状が形成された基盤と、該基盤の表面上に形成された炭素膜と、前記基盤と前記炭素膜との界面に、15〜200keVの加速電圧で加速された不活性ガスのイオン注入により形成された非晶質層とを含むことを特徴とするガラス成形用型。
IPC (2):
C03B 11/00 ,  C04B 41/89
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
  • ガラス光学素子成形金型とその製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-315075   Applicant:京セラ株式会社
  • 特開平2-199036
  • 特開平3-257031
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