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J-GLOBAL ID：200903029671390354

レ-ザ-干渉測長装置

Inventor： 樋口 朗
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Agent (1)： 小池 寛治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999176355
Publication number (International publication number)：2001007003
Application date： Jun. 23, 1999
Publication date： Jan. 12, 2001
Summary：

【要約】【課題】 マスクステ-ジとウエハステ-ジとを同期走査させる走査型露光装置において、上記2つのステ-ジの同期走査誤差などを正確に測定できるレ-ザ-干渉測長装置を提供すること。【解決手段】 レ-ザ-光Loを偏光成分Ls、Lpに分ける偏光スプリッタ20と、Lsを測定光としてウエハステ-ジ12の反射鏡12aで2回反射させ、そのLsとLpのレ-ザ-光をビ-ムスプリッタ22で分岐し、一方の分岐レ-ザ-光の干渉光から干渉信号Sig1を得る手段と、他方の分岐レ-ザ-光を偏光成分Ls、Lpに分ける偏光スプリッタ29と、Lsを測定光としてマスクステ-ジ11の反射鏡11aで1回反射させ、そのLsとLpのレ-ザ-光を干渉させて干渉信号Sig2を得る手段と、Sig1、Sig2から測定値を演算する演算処理回路13とから構成してある。

Claim (excerpt)：

マスクを搭載するマスクステ-ジと、マスク上のパタ-ンをウエハに縮小投影する所定倍率の光学系と、前記ウエハを搭載するウエハステ-ジとを備え、前記マスクステ-ジとウエハステ-ジとを前記光学系の倍率にしたがって同期走査させる露光装置のレ-ザ-干渉測長装置において、レ-ザ-光源からの光を偏光状態により測定光と参照光とに分岐し、測定光をウエハステ-ジに設けた反射鏡で複数回反射させたのち、前記参照光と干渉させて第1の干渉信号を得る手段と、前記ウエハステ-ジに設けた反射鏡で複数回反射させた測定光と前記参照光の一部分をマスクステ-ジ側へ導く手段と、前記マスクステ-ジ側に導かれた測定光をマクスステ-ジに設けた反射鏡で1回若しくは2回反射させ、前記マスクステ-ジ側に導かれた参照光と干渉させて第2の干渉信号を得る手段と、前記第1、第2の干渉信号を信号処理する演算処理手段とを備え、この演算処理手段から、ウエハステ-ジの位置を測長する信号と、マスクステ-ジとウエハステ-ジの同期走査誤差信号と、マスクステ-ジの位置を測長する信号とを各々出力させる構成としたことを特徴とするレ-ザ-干渉測長装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/23

FI (4)：

H01L 21/30 518 ,  G01B 11/00 G ,  G03F 7/23 H ,  H01L 21/30 516 B

F-Term (35)：

2F065AA06 ,  2F065AA09 ,  2F065AA20 ,  2F065CC00 ,  2F065DD06 ,  2F065FF00 ,  2F065FF49 ,  2F065FF52 ,  2F065GG04 ,  2F065GG23 ,  2F065HH09 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ05 ,  2F065LL12 ,  2F065LL17 ,  2F065LL33 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  2F065LL46 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ00 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ51 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC16 ,  5F046DA08 ,  5F046DA11 ,  5F046DB05 ,  5F046DB11 ,  5F046DC05 ,  5F046DC12