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J-GLOBAL ID：200903029683525760

核酸マイクロアレイの作製方法及び核酸スポッティング溶液

Inventor： 田代 英夫 ,  近藤 恭光 ,  畠山 哲
Applicant, Patent owner： 理化学研究所
Agent (1)： 特許業務法人特許事務所サイクス
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002339551
Publication number (International publication number)：2004170367
Application date： Nov. 22, 2002
Publication date： Jun. 17, 2004
Summary：

【課題】最適なハイブリダイゼーション効率を示すように核酸の固定化量の制御を容易に行うことができる手段を提供すること。【解決手段】基板表面に核酸スポッティング溶液をスポットして核酸スポットを形成する核酸マイクロアレイの作製方法。前記核酸スポッティング溶液は、少なくとも基板表面に固定化することができる反応基をスペーサー基を介して有する核酸と、核酸を有さず基板表面に固定化することができる反応基とスペーサー基を有する化合物を含む。前記核酸分子数と、前記化合物の分子数の比率が1:1〜1:1000の範囲である。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

基板表面に核酸スポッティング溶液をスポットして核酸スポットを形成する核酸マイクロアレイの作製方法において、 前記核酸スポッティング溶液は、少なくとも基板表面に固定化することができる反応基をスペーサー基を介して有する核酸と、核酸を有さず基板表面に固定化することができる反応基とスペーサー基を有する化合物を含むことを特徴とする作製方法。

IPC (4)：

G01N33/53 ,  C12N15/09 ,  G01N1/28 ,  G01N37/00

FI (5)：

G01N33/53 M ,  G01N37/00 102 ,  G01N1/28 J ,  C12N15/00 F ,  G01N1/28 V

F-Term (19)：

2G052AB20 ,  2G052CA03 ,  2G052CA04 ,  2G052CA16 ,  2G052CA32 ,  2G052DA05 ,  2G052EC14 ,  2G052FA05 ,  2G052FD06 ,  2G052HB10 ,  2G052JA04 ,  2G052JA07 ,  2G052JA09 ,  2G052JA13 ,  2G052JA15 ,  2G052JA16 ,  4B024AA11 ,  4B024CA09 ,  4B024HA12