Pat

J-GLOBAL ID：200903029700859863

回転レーザー照射装置

Inventor： 大友 文夫 ,  小泉 浩 ,  籾内 正幸 ,  大石 政裕 ,  後藤 義明
Applicant, Patent owner： 株式会社トプコン
Agent (1)： 和泉 雄一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997040153
Publication number (International publication number)：1998221075
Application date： Feb. 09, 1997
Publication date： Aug. 21, 1998
Summary：

【要約】[目的] 本発明は、回転レーザー照射装置に係わり、特に、パルスレーザーの射出タイミングと照射手段の回転とを同期させることにより、間欠点状のマークを描写し、視認距離を飛躍的に増大させ、作業領域も拡大することのできる回転レーザー照射装置を提供することを目的とする。[構成] 本発明は、パルス駆動手段がパルスレーザー光源を駆動し、照射手段が、パルスレーザー光源からのパルスレーザー光束を被照射物に対して照射し、回転駆動手段が照射手段を回転させ、回転検出手段が照射手段の回転を検出する様になっており、パルス駆動手段の駆動タイミングと回転検出手段の検出信号とに基づき、演算処理手段が、回転駆動手段を制御して、パルスレーザーの射出タイミングと照射手段の回転とを同期させる様になっている。

Claim (excerpt)：

パルスレーザー光源と、このパルスレーザー光源を駆動するためのパルス駆動手段と、前記パルスレーザー光源からのパルスレーザー光束を被照射物に対して照射させるための照射手段と、この照射手段を回転させるための回転駆動手段と、前記照射手段の回転を検出するための回転検出手段と、前記パルス駆動手段の駆動タイミングと回転検出手段の検出信号とに基づき、前記回転駆動手段を制御して、前記パルスレーザーの射出タイミングと前記照射手段の回転とを同期させるための演算処理手段とから構成された回転レーザー照射装置。

IPC (2)：

G01C 15/00 ,  H01S 3/103

FI (2)：

G01C 15/00 L ,  H01S 3/103

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• レーザ測量装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-298506   Applicant：旭光学工業株式会社