Pat
J-GLOBAL ID：200903029718056741
フタロニトリル化合物およびフタロシアニン化合物の新規製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
八田 幹雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996215828
Publication number (International publication number)：1998059921
Application date： Aug. 15, 1996
Publication date： Mar. 03, 1998
Summary：
【要約】【課題】 高純度で簡便かつ経済的なフタロニトリル化合物およびフタロシアニン化合物の新規な製造方法を提供する。【解決手段】 ハロゲン化フタロニトリル化合物と求核置換体とを反応させフタロニトリル化合物を製造する方法において、溶媒としてベンゾニトリルを用い、反応終了後の反応生成液に水を添加して洗浄することを特徴とするフタロニトリル化合物の製造方法、およびこれにより得られた反応生成液に金属、ハロゲン化金属、金属酸化物または有機酸金属塩を添加し前記フタロニトリル化合物と反応させることを特徴とするフタロシアニン化合物の製造方法。
Claim (excerpt)：
一般式(I)【化1】(式中、Xはフッ素原子または塩素原子を表し、R1 は同一または異なって水素原子、ハロゲン原子、-NHR2 基、-OR2 基または-SR2 基を表し、R2は置換基を有してもよいアルキル基またはアリール基を表し、nは1〜4の整数を表す。)で示される化合物と一般式(II)【化2】(式中、R3 は-NHR4 基、-OR4 基または-SR4 基を表し、R4 は置換基を有してもよいアルキル基またはアリール基を表す。)で示される化合物とを反応させ、一般式(III )【化3】(式中、X、R1 、R3 およびnは前記定義どおりであり、mは1≦m≦nの整数を表す)で示されるフタロニトリル化合物を製造する方法において、溶媒としてベンゾニトリルを用い、反応終了後の反応生成液に水を添加して洗浄することを特徴とするフタロニトリル化合物の製造方法。
IPC (7)：
C07C255/51
, C07C253/30
, C07D487/22
, C09B 47/10
, C09B 47/18
, C09B 47/20
, C09B 47/22
C07C255/51
, C07C253/30
, C07D487/22
, C09B 47/10
, C09B 47/18
, C09B 47/20
, C09B 47/22
