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J-GLOBAL ID:200903029758843037
高透磁率かつ高飽和磁束密度の軟磁性成形体の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
柳川 泰男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001154197
Publication number (International publication number):2006040906
Application date: May. 23, 2001
Publication date: Feb. 09, 2006
Summary:
【課題】高飽和磁束密度と高透磁率とを兼備し、かつ安価で製造が容易なFe系合金からなる軟磁性成形体を提供すること。【解決手段】溶融状態にあるFe基合金組成物を急冷凝固させて、非晶質相中に平均粒径が50nm以下のα-Fe結晶相が分散された混相組織を有し、180 ゚折曲げが可能な薄帯を製造する工程、そして該薄帯をα-Fe結晶相の結晶化温度より高い温度に加熱する工程により軟磁性成形体を製造する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
溶融状態にあるFe基合金組成物を急冷凝固させて、非晶質相中に平均粒径が50nm以下のα-Fe結晶相が分散された混相組織を有し、180 ゚折曲げが可能な薄帯を製造する工程、そして該薄帯をα-Fe結晶相の結晶化温度より高い温度に加熱する工程を含むことを特徴とする軟磁性成形体の製造方法。
IPC (4):
H01F 1/153
, B22D 11/06
, C22C 38/00
, C22C 38/16
FI (4):
H01F1/14 C
, B22D11/06 360B
, C22C38/00 303V
, C22C38/16
F-Term (11):
4E004DB02
, 4E004NB07
, 4E004NC10
, 4E004TB04
, 5E041AA11
, 5E041AA19
, 5E041BB03
, 5E041CA02
, 5E041CA04
, 5E041NN01
, 5E041NN06
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