Pat

J-GLOBAL ID：200903029794046569

シリコンウエハの損傷結晶領域除去方法

Inventor： ラスズロ・ファブリー ,  ベルンド・パザール ,  エデルトラオド・シュタイガー
Applicant, Patent owner： ワッカー・ジルトロニク・ゲゼルシャフト・フュア・ハルブライターマテリアリエン・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996114853
Publication number (International publication number)：1996316191
Application date： May. 09, 1996
Publication date： Nov. 29, 1996
Summary：

【要約】【課題】シリコンウエハの機械加工により損傷した結晶領域をシリコンウエハから除去する方法において、外来金属によるシリコンウエハーの汚染に関する問題を回避できる方法を提供すること。【解決手段】シリコンウエハをフッ化水素含有水溶液で前処理した後、超音波を当て且つアルカリ金属水酸化物を含有する水溶液中、55〜95°Cの温度でエッチングする。

Claim (excerpt)：

シリコンウエハの機械加工により損傷した結晶領域をシリコンウエハから除去するシリコンウエハの損傷結晶領域除去方法であって、シリコンウエハをフッ化水素含有水溶液で前処理した後、超音波を当て且つアルカリ金属水酸化物を含有する水溶液中、55〜95°Cの温度でエッチングすることを特徴とするシリコンウエハの損傷結晶領域除去方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭61-096738
  
• 特公昭49-039227