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J-GLOBAL ID:200903029832788469
放射線感応性樹脂組成物およびそれを用いたレジストパターンの形成方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大垣 孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995124937
Publication number (International publication number):1996320562
Application date: May. 24, 1995
Publication date: Dec. 03, 1996
Summary:
【要約】【目的】 現有のアルカリ現像装置を用いて放射線露光および現像できる放射線感応性樹脂組成物を提供する。【構成】 放射線感応性樹脂組成物は、アルカリ可溶性のフェノール樹脂と、単量体単位毎にC-O-Si結合を有するポリ(シロキサン)と、放射線の作用により分解して酸を発生する酸発生剤とを含む。
Claim (excerpt):
アルカリ可溶性のフェノール樹脂と、単量体単位毎にC-O-Si結合を有するポリ(シロキサン)と、放射線の作用により分解して酸を発生する酸発生剤とを含むことを特徴とする放射線感応性樹脂組成物。
IPC (10):
G03F 7/038 505
, G03F 7/004 503
, G03F 7/023 511
, G03F 7/075 511
, G03F 7/26 511
, G03F 7/38 511
, G03F 7/40 521
, H01L 21/027
, H01L 21/3065
, H01L 21/312
FI (12):
G03F 7/038 505
, G03F 7/004 503
, G03F 7/023 511
, G03F 7/075 511
, G03F 7/26 511
, G03F 7/38 511
, G03F 7/40 521
, H01L 21/312 A
, H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 568
, H01L 21/30 573
, H01L 21/302 H
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