Pat

J-GLOBAL ID：200903029842149146

高周波励起プラズマの計測装置

Inventor： 大見 忠弘 ,  平山 昌樹
Applicant, Patent owner： 大見 忠弘
Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993022106
Publication number (International publication number)：1994215893
Application date： Jan. 15, 1993
Publication date： Aug. 05, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、高周波放電プラズマにおいてもプラズマの各パラメータを正確に、且つ簡単に測定可能なプラズマ測定装置を提供することを目的とする。【構成】 真空容器内で所定の周波数の高周波放電により生起されたプラズマの諸量を計測する計測装置において、プラズマ中に設置される第1の電極と、前記真空容器外部に設けられた信号取り出しのための端子との間を電気的に接続するための配線と、該配線表面の少なくとも一部を覆う如く設けられた第1の絶縁体とを有し、前記第1の電極から前記端子側を見た前記第1の電極と接地との間の前記所定の周波数におけるインピーダンスの絶対値が、前記第1の電極に直流電流が流れない状態における前記第1の電極とプラズマとの間の前記所定の周波数におけるインピーダンスの絶対値の5倍以上となるよう構成されていることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

真空容器内で所定の周波数の高周波放電により生起されたプラズマの諸量を計測する計測装置において、プラズマ中に設置される第1の電極と、前記真空容器外部に設けられた信号取り出しのための端子との間を電気的に接続するための配線と、該配線表面の少なくとも一部を覆う如く設けられた第1の絶縁体とを有し、前記第1の電極から前記端子側を見た前記第1の電極と接地との間の前記所定の周波数におけるインピーダンスの絶対値が、前記第1の電極に直流電流が流れない状態における前記第1の電極とプラズマとの間の前記所定の周波数におけるインピーダンスの絶対値の5倍以上となるよう構成されていることを特徴とする高周波励起プラズマの計測装置。