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J-GLOBAL ID：200903029892874364
イオン照射装置、及び帯電防止装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992241675
Publication number (International publication number)：1994088225
Application date： Sep. 10, 1992
Publication date： Mar. 29, 1994
Summary：
【要約】【目的】メンテナンス周期が長く、被イオン照射体への重金属汚染が少なく、また、被イオン照射体に、或いはイオンビームに均一に電荷を供給することのできるイオン照射装置を提供することを目的とする。【構成】イオンを発生させるイオン源9と、前記イオン源9からのイオンが照射される被イオン照射体3と、前記被イオン照射3に電荷を供給するか、或いは、前記イオンの集合体のイオンビーム8に電荷を供給するためにプラズマ発生放電容器19(19A及び19B)を備えるイオン照射装置において、、前記イオンビーム8とを取り囲むプラズマ発生放電容器19(19A及び19B)を備え、前記プラズマを形成するためのマイクロ波発生部及び磁場発生部21(21A及び21B)とガス供給部12(12A及び12B)とを備えるイオン照射装置を作成する。
Claim (excerpt)：
イオンを発生させるイオン源と、該イオン源からのイオンが照射される被イオン照射体と、該被イオン照射体、或いは前記イオンの集合体のイオンビームに電荷を供給するためのプラズマ発生放電容器とを備えるイオン照射装置において、前記イオンビームを取り囲むプラズマ発生放電容器プラズマ源を具備し、該プラズマ発生放電容器でプラズマを発生させるためのマイクロ波発生部及び磁場発生部とガス供給部を備えるイオン照射装置。
IPC (3)：
C23C 14/48
, H01J 37/317
, H01L 21/265
