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J-GLOBAL ID：200903029902102420

オキシム誘導体及び潜在的酸としてのその使用

Inventor： 山戸 斉 ,  朝倉 敏景 ,  松本 啓 ,  大和 真樹
Applicant, Patent owner： チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド
Agent (3)： 津国 肇 ,  篠田 文雄 ,  伊藤 温
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002529315
Publication number (International publication number)：2004510189
Application date： Sep. 18, 2001
Publication date： Apr. 02, 2004
Summary：

式(I、II、III、IV、V、VI及びVII)〔式中、R1は、例えばC1-C18アルキルスルホニルであり;R2は、ハロゲン又はC1-C10ハロアルキルであり;R3は、例えば、非置換か又は置換されているフェニレンジスルホニル、ジフェニレンジスルホニル若しくはオキシジフェニレンジスルホニルであり;Ar1は、例えば、直接結合、C1-C12アルキレン、酸の作用で開裂する-O-C-結合又はO-Si-結合であり;A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7、A8、A9、A10、A11及びA12は、例えば、直接結合、-O-若しくはS-であるか、或いは非置換か又は置換されているC1-C12アルキレン若しくはフェニレンであり;Y1は、C1-C12アルキレン(これは、例えば、OR4又はSR7で置換されている)であり;Y2は、例えばC1-C12アルキレンの三価基であり;Y3は、例えばC1-C12アルキレンの四価基であり;Xはハロゲンであり;Ar′1は、例えばC1-C12アルキル(これは非置換か又は置換されている)であり;Ar′′1は、例えばフェニレンであるが;但し、Ar′1、Ar′′1のうちの少なくとも1個が、(VIII)、(IX)、(X)、(XI)、(XII)及び/又は(XIII)の基1〜3個で置換され;M+は、例えば(XIV)であり;L-は、例えばハロゲンであり;R15、R16、R17及びR18は、例えば、水素又はフェニルであり;R19、R20、R21、R22及びR23は、例えばフェニルである〕の新規オキシム化合物は、フォトレジストの調製に特に適している。

Claim (excerpt)：

(a)酸の作用で硬化する化合物、又は酸の作用でその溶解度が増加する化合物;及び (b)感光性酸供与体として、式(I)、(II)、(III)、(IV)、(V)、(VI)又は(VII):

IPC (4)：

G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (5)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (14)：

2H025AA01 ,  2H025AA11 ,  2H025AB03 ,  2H025AB13 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CC17