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J-GLOBAL ID：200903029905070170

レジスト組成物

Inventor： 尾家 正行 ,  田中 秀行 ,  阿部 信紀
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991188138
Publication number (International publication number)：1993011441
Application date： Jul. 02, 1991
Publication date： Jan. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 感度、解像度、耐エッチング性および保存安定性などのレジスト特性が優れたレジスト材料を提供すること。【構成】 アルカリ可溶性フェノール樹脂、活性光線の照射により酸を生成する化合物および酸の存在下で架橋する化合物を含有するレジスト組成物において、活性光線の照射により酸を生成する化合物がハロゲン含有多価フェノール化合物であることを特徴とするレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性フェノール樹脂、活性光線の照射により酸を生成する化合物および酸の存在下で架橋する化合物を含有するレジスト組成物において、活性光線の照射により酸を生成する化合物が一般式(I)〜(VII)で示される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のハロゲン含有多価フェノール化合物であることを特徴とするレジスト組成物。一般式(I)【化1】一般式(II)【化2】一般式(III)【化3】一般式(IV)【化4】一般式(V)【化5】一般式(VI)【化6】一般式(VII)【化7】R1〜R8:ハロゲン、水素、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基または置換アルコキシ基。ただし、一般式(I)〜(VII)において、少なくとも1つはハロゲン。R9〜R12:水素、アルキル基。A :単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリーレン基、置換アリーレン基。B :酸素、単結合。

IPC (4)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-052348
  
• 特開平4-367864
  
• 特開平4-367865