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J-GLOBAL ID：200903029915036680

シリカ分散液及びその製造方法

Inventor： 加藤 寛 ,  石津 賢一 ,  河野 博之
Applicant, Patent owner： 株式会社トクヤマ
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996242380
Publication number (International publication number)：1997142827
Application date： Sep. 12, 1996
Publication date： Jun. 03, 1997
Summary：

【要約】【課題】 各種のシリカを原料に、研磨剤やコート剤の原料として有用な、安定性の高い新規のシリカ分散液及びその製造方法を提供する。【解決手段】 平均粒子径100nm未満の粉砕シリカ粒子を極性溶媒に分散してなるシリカ分散液であり、シリカ粒子を極性溶媒に分散してなるシリカスラリーを対向衝突させることによって平均粒子径100nm未満に粉砕することによって得ることができる。

Claim (excerpt)：

平均粒子径100nm未満の粉砕シリカ粒子を極性溶媒に分散してなるシリカ分散液。

IPC (3)：

C01B 33/14 ,  B24B 37/00 ,  H01L 21/304 321

FI (3)：

C01B 33/14 ,  B24B 37/00 H ,  H01L 21/304 321 P

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• シリカゾルの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-341421   Applicant：日鉄鉱業株式会社
• 特公昭47-026959