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J-GLOBAL ID：200903029919053660

酸化チタン膜の作製方法

Inventor： 垰田 博史 ,  加藤 俊作 ,  加藤 薫一
Applicant, Patent owner： 工業技術院長 ,  株式会社加藤機械製作所 ,  垰田 博史 ,  加藤 俊作
Agent (2)： 後藤 憲秋 (外3名) ,  後藤 憲秋 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997190514
Publication number (International publication number)：1999021127
Application date： Jun. 30, 1997
Publication date： Jan. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】 非耐熱性の材料の表面に酸化チタン膜を簡単かつ迅速に作製する方法を提供する。【解決手段】 基材に酸化チタンゾルをコーティングした後、そのままで、あるいは、乾燥してから、マイクロ波を照射する。

Claim (excerpt)：

基材に酸化チタンゾルをコーティングした後、そのままで、あるいは、乾燥してから、マイクロ波を照射することを特徴とする酸化チタン膜の作製方法。

IPC (3)：

C01G 23/04 ,  B01J 19/08 ,  C03C 17/25

FI (3)：

C01G 23/04 C ,  B01J 19/08 F ,  C03C 17/25 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 薄膜形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-355384   Applicant：株式会社ケミトロニクス