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J-GLOBAL ID:200903029922861556

位置検出装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大森 聡
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992154347
Publication number (International publication number):1993326375
Application date: May. 21, 1992
Publication date: Dec. 10, 1993
Summary:
【要約】【目的】 ウエハ表面が荒れている場合にも良好な位置検出精度を得ると共に、ウエハ上のマーク領域を小さくしてウエハの有効面積を大きくする。【構成】 ウエハW上のウエハマークを光源1からの照明光で照明し、反射型指標板20上の指標マークをウエハWの照明光とは独立に光源1から導いた照明光で照明する。ウエハマークの像と指標マークの像とを並行に撮像素子17,18上の撮像面に結像し、両者の位置関係を検出する。
Claim (excerpt):
固定部材上に移動自在に支持された基板上の第1マークと前記固定部材に対して固定された指標板上の第2マークとの位置関係より前記基板の位置検出を行う装置において、前記基板上の前記第1マークを含む領域を照明する第1照明系と、前記指標板上の前記第2マークを照明する第2照明系と、前記第1マークの像を所定の検出面上に結像する第1対物光学系と、前記第2マークの像を前記所定の検出面上の前記第1マークの近傍に結像する第2対物光学系と、前記所定の検出面上に撮像面が配置され前記第1マークの像及び前記第2マークの像に対応する検出信号を平均的なレベルが所定範囲になるように利得制御して生成する撮像手段と、該撮像手段の検出信号より前記第1マークと前記第2マークとの位置関係を算出する演算手段と、前記撮像手段より得られる前記指標板上の前記第2マークの像に対応する検出信号の強度及び前記第2照明系の照明光の強度の内の少なくとも一方のデータより前記算出された前記第1マークと前記第2マークとの位置関係を補正する補正手段とを有する事を特徴とする位置検出装置。
IPC (3):
H01L 21/027 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/68
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
  • 特開平2-082516
  • 特開平4-055707
  • 特開昭61-142742
Cited by examiner (5)
  • 特開平4-055707
  • 特開平4-055707
  • 特開昭61-142742
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